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    晶圆减薄的由来

    发布时间:2019-07-31 15:59:45

      晶圆是制造半导体芯片的基本材料,半导体集成电路最主要的原料是硅,因此对应的就是硅晶圆。在制备存储器时需要在晶圆表面制备存储区和边缘区,在存储区中形成多个相互隔离的存储单元,在边缘区中制备形成相应的控制结构。

      在存储器生产的过程中,往往需要对晶圆表面进行化学机械研磨,然而,现有的研磨技术下,随着存储器的存储区内存储阵列的特征尺寸的不断减小,使得研磨效果在存储区和边缘区的差异变大,晶圆表面平整度变差,严重时可能导致后续的刻蚀工艺在晶圆表面造成损伤。

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